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            產(chǎn)品展示/ Product display

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            • XRS2000復(fù)方磺胺甲噁唑混懸液高剪切分散機

              復(fù)方磺胺甲噁唑混懸液高剪切分散機由于工作腔體內(nèi)三組分散頭(定子+轉(zhuǎn)子)同時工作,乳液經(jīng)過高剪切后,液滴更細膩,粒徑分布更窄,因而生成的混合液穩(wěn)定性更好。

              更新時間

              2025-09-06

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            • XMD2000多糖分散液高剪切超高速分散機

              多糖分散液高剪切超高速分散機由于工作腔體內(nèi)三組分散頭(定子+轉(zhuǎn)子)同時工作,乳液經(jīng)過高剪切后,液滴更細膩,粒徑分布更窄,因而生成的混合液穩(wěn)定性更好。

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            • XMD2000鈦酸鋰偶聯(lián)劑改性石墨烯研磨分散機

              鈦酸鋰偶聯(lián)劑改性石墨烯研磨分散機定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

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            • XMD2000肌酸粉高剪切混合分散機

              肌酸粉高剪切混合分散機由于工作腔體內(nèi)三組分散頭(定子+轉(zhuǎn)子)同時工作,乳液經(jīng)過高剪切后,液滴更細膩,粒徑分布更窄,因而生成的混合液穩(wěn)定性更好。

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            • XRS2000硅酸脂改性碳納米管高剪切分散機

              硅酸脂改性碳納米管高剪切分散機由于工作腔體內(nèi)三組分散頭(定子+轉(zhuǎn)子)同時工作,乳液經(jīng)過高剪切后,液滴更細膩,粒徑分布更窄,因而生成的混合液穩(wěn)定性更好

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            • XMD2000氧化銦錫光電應(yīng)用納米級分散機

              氧化銦錫光電應(yīng)用納米級分散機具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

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            • XMD二氧化鈦超高速研磨分散機

              二氧化鈦超高速研磨分散機定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

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            • XMD碳硅材料高剪切研磨分散機

              碳硅材料高剪切研磨分散機轉(zhuǎn)子速度可以達到66m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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