碳納米管研磨分散設備

碳納米管研磨分散設備

碳納米管導電漿料及其制備方法

碳納米管導電漿料主要由碳納米管、其他導電填料、分散助劑、和溶劑組成，其質量百分比組成為：碳納米管：0.5-15%，其他導電物質0.1-2%，分散助劑：0.1-5%，其余為溶劑。

該碳納米管導電漿料制備方法為：首先將分散助劑溶解在溶劑中，然后在攪拌條件下加入碳納米管和其他導電填料，待碳納米管和其他導電填料充分浸潤后，采用SID研磨分散機對漿料進行研磨分散，幾小時后即可得到穩定分散的碳納米管導電漿料。本發明方法簡單，不破壞碳納米管結構和導電性，所制得的碳納米管導電漿料具有優良的導電性，且性質穩定均一，靜置3個月后，漿料穩定性>90%。

對于碳納米管漿料以及其他鋰電池漿料的研磨分散，普遍存在著2個難以解決的問題：
 
  1、研磨的細度，傳統的設備研磨設備是通過刀頭去磨細，這樣經常會破壞碳納米管結構和導電性，使物料變性。而SID研磨分散機，細化物料更多的是通過物料與物料直接的撞擊來完成研磨細化的功能，不會破壞物料結構。

  2、容易形成二級團聚體，在碳納米管粒徑細化之后，由于分子之間的作用力，小的物料又會二次團聚，從而影響*終產品的物料粒徑以及分散的效果。SID研磨分散機很好的克服了二級團聚的現象，SID研磨分散機是研磨機和分散機一體化的設備，在碳納米管漿料粒徑細化后，瞬間通過分散工作腔，進行分散，避免二次團聚的現象。

  GMD2000系列研磨分散設備是SID公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）。

碳納米管研磨分散設備參數表：