硼氫hua鈉立式膠體磨

硼氫hua鈉立式膠體磨

硼氫hua鈉常溫常壓下穩(wěn)定。硼氫hua鈉堿性溶液呈棕黃色。常用的還原劑之一。對空氣中的水氣和氧較穩(wěn)定，操作處理容易。適用于工業(yè)規(guī)模， 因為溶解性的問題，通常使用甲醇、乙醇作為溶劑。通常情況下，硼氫hua鈉無法還原酯，酰胺，羧酸及腈類化合物，但當酯的羰基α位有雜原子存在時例外，可以將酯還原。與硼氫hua鈉接觸后有咽喉痛、咳嗽、呼吸急促、頭痛、腹痛、腹瀉、眩暈、眼結膜充血、疼痛等癥狀。吸入或者皮膚接觸該試劑對人體有害。應干燥保存，使用時應特別小心，操作時在通風櫥中進行。應貯存在陰涼、干燥的庫房中。防潮，防震，勿與無機酸共貯混運，遠離熱源和火種及易燃物品。

硼氫hua鈉可以在非常溫和的條件下實現(xiàn)醛酮羰基的還原，生成一級醇、二級醇。還原步驟是先把底物溶于溶劑，一般是甲醇或者乙醇，然后用冰浴冷卻，將粉末加入混合物攪拌至反應wan全即可。它是一種中等強度的還原劑，所以在反應中表現(xiàn)出良好的化學選擇性，只還原活潑的醛酮羰基，而不與酯、酰胺作用，一般也不與碳碳雙鍵、叁鍵發(fā)生反應。少量硼氫hua鈉可以將腈還原成醛，過量則還原成胺

GM2000系列是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。GM2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求

膠體磨是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果。

研磨頭表面涂料一層及其堅硬的硬質(zhì)材料，從而使其表面具有非常粗糙的紋理，這種硬質(zhì)材料是由碳化物、陶瓷等高質(zhì)量物質(zhì)構成，并且具有不同的粒徑，研磨頭處形成了一個具有較強的剪切區(qū)域，可以輸送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和zui后粒徑大小都比膠體磨GM2000的效果更加理想。

硼氫hua鈉立式膠體磨設備參數(shù)表：