半導體單壁碳納米管分散機

半導體單壁碳納米管分散機

單壁碳納米管以其du特而且優異的物理化學性質在諸多領域上的應用 方面展現了很好的發展前景。目前存在的制備單壁碳納米管(SWNTs)的方法得到的都是不同導電性，不同手性混合的樣品，他們的區別主要是由直徑和螺旋角 和手性指數決定的。于是金屬性SWNTs與半導體性SWNTs(m-SWNTs，s-SWNTs)及不同手性的單壁碳納米管的分離技術就顯得尤為重要。

碳納米管導電漿料及其制備方法

碳納米管導電漿料主要由碳納米管、其他導電填料、分散助劑、和溶劑組成，其質量百分比組成為：碳納米管：0.5-15%，其他導電物質0.1-2%，分散助劑：0.1-5%，其余為溶劑。

該碳納米管導電漿料制備方法為：首先將分散助劑溶解在溶劑中，然后在攪拌條件下加入碳納米管和其他導電填料，待碳納米管和其他導電填料充分浸潤后，采用SID研磨分散機對漿料進行研磨分散，幾小時后即可得到穩定分散的碳納米管導電漿料。本發明方法簡單，不破壞碳納米管結構和導電性，所制得的碳納米管導電漿料具有優良的導電性，且性質穩定均一，靜置3個月后，漿料穩定性>90%。

對于碳納米管漿料以及其他鋰電池漿料的研磨分散，普遍存在著2個難以解決的問題：
  
   1、研磨的細度，傳統的設備研磨設備是通過刀頭去磨細，這樣經常會破壞碳納米管結構和導電性，使物料變性。而SID研磨分散機，細化物料更多的是通過物料與物料直接的撞擊來完成研磨細化的功能，不會破壞物料結構。

   2、容易形成二級團聚體，在碳納米管粒徑細化之后，由于分子之間的作用力，小的物料又會二次團聚，從而影響zui終產品的物料粒徑以及分散的效果。SID研磨分散機很好的克服了二級團聚的現象，SID研磨分散機是研磨機和分散機一體化的設備，在碳納米管漿料粒徑細化后，瞬間通過分散工作腔，進行分散，避免二次團聚的現象。

半導體單壁碳納米管分散機，GMD2000研磨分散機有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，GM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質。

GMD2000研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續24小時不停機運行。

研磨分散機的特點：

更穩定 采用優化設計理念，將先進的技術與創新的思維有效融合，并體現在具體的設備結構設計中，為設備穩定運行提供了保證.

新結構 通過梳齒狀定子切割破碎，縫隙疏密決定細度大小，超高線速度的吸料式葉輪提供chao強切割力，纖維濕法研磨破碎可達400目.

更可靠 采用整體式機械密封，程度上解決了高速運轉下的物料泄漏以及冷卻介質污染等問題，安裝與更換方便快捷.

新技術 采用國際xian進的受控切割技術，將纖維類物料粉碎細度控制在設定范圍之內，滿足生產中的粗、細及超細濕法粉碎的要求.

GMD2000系列研磨分散機設備選型表: